麥克尼斯MX-200EDI模塊是產(chǎn)水量為2噸規(guī)格的EDI模塊產(chǎn)品。在使用過(guò)程中無(wú)需人工操作，全自動(dòng)化運(yùn)行。而且不用化學(xué)藥劑再生。在操作使用上非常的簡(jiǎn)單。所以EDI模塊近幾年也替代了混床樹(shù)脂的應(yīng)用。MX-200EDI模塊連續(xù)穩(wěn)定地制取高純度的水。
MX-200EDI模塊參數(shù)
| 型號(hào)與規(guī)格 | 產(chǎn)水流量 | 回收率 | 產(chǎn)水電阻率 | 電壓 | 電流 | 外形尺寸 |
| （m2/h） | （%） | （MQ.cm） | （DCV） | （DCA） | （長(zhǎng)×高×寬） |
| MX-200 | 1.5-2.4 | 90-95 | 15-18 | 0-330 | ≤3.5 | 580×680×310 |
麥克尼斯EDI模塊MX-200進(jìn)水條件
水源：（二級(jí)）反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-10us/cm，最大電導(dǎo)率≤25us/cm（NaC1）
PH值：7.0-8.5（pH7.0-8.0之間EDI可有最佳電阻率性能）
溫度：15℃--35℃，（EDI最佳溫度在25℃）
進(jìn)水壓力（Dw）：0.15-0.4MPa
濃水進(jìn)水壓力（Cns）：比Ds端壓力低0.06-0.1MPa（必須）
產(chǎn)水壓力（Dour）：0.05-0.20MPa
濃水出水壓力（Cour）：比Dor端壓力低0.05-0.1MPa（必須）
進(jìn)水硬度：<0.5ppm（碳酸鈣計(jì)）進(jìn)水有機(jī)物：TOC<0.5ppm
進(jìn)水氧化劑：C12（活性）<0.03ppm，0。（臭氧）<0.02ppm，Ho.（羥基氧）<0.02ppm
進(jìn)水重金屬離子：Fe、Mn、變價(jià)性金屬離子<0.01ppm
進(jìn)水硅：Si0?<0.5ppm（反滲透RO產(chǎn)水典型范圍是50-150ppb）
進(jìn)水總CO2：<3ppm
進(jìn)水顆粒度：<1um
膜堆性能
| 操作參考 |
| 回收率 | 90-95% |
| 最大允許進(jìn)水壓力 | 7bar（100psi） |
| 最高允許進(jìn)水溫度 | 45℃（113℉） |
| 名義流量時(shí)的壓降范圍 | 1.4-2.1bar（20-30psi） |
| 產(chǎn)水水質(zhì) |
| 產(chǎn)水電阻率 | >16MΩ.cm（見(jiàn)下面說(shuō)明） |
| *說(shuō)明：實(shí)際性能可以用lonpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定 | |
| 硅（SiO，）去除率 | 90-99%取決于進(jìn)水條件 |
麥克尼斯MX-200圖片：
麥克尼斯MX-200EDI模塊特點(diǎn)有哪些？
EDI的應(yīng)用大大降低了純水制取對(duì)大型設(shè)備場(chǎng)地占用的要求，MX-200EDI的技術(shù)應(yīng)用則也完全地符合了這一點(diǎn)。由于EDI系統(tǒng)可以依據(jù)現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際情況進(jìn)行適配設(shè)計(jì)組合，保證設(shè)備廠房間內(nèi)無(wú)高罐（混床）存在。在要求成套設(shè)備能迅速地安裝起來(lái)并以投入運(yùn)行時(shí)，采用膜法系統(tǒng)的設(shè)備在這方面有著極其不可忽略的優(yōu)勢(shì)。
還有一個(gè)特點(diǎn)是，MX-200EDI排出的濃水中僅含有進(jìn)水中的雜質(zhì)成分，通常這種水的水質(zhì)比預(yù)處理系統(tǒng)的原水進(jìn)水水質(zhì)要好，故濃水可以考慮直接地回收送至RO的原水入水口，這樣就有效地消除了對(duì)廢水的排放。相反，混床的再生是一個(gè)一次性的過(guò)程，由于使用化學(xué)藥劑再生離子交換樹(shù)脂床，其廢液中含有比一般EDI濃水高3-4倍的廢棄離子，這類廢液通常不回收到預(yù)處理系統(tǒng)中，而是排放于廢水中和池內(nèi)。
EDI的運(yùn)行過(guò)程是連續(xù)的，其生產(chǎn)的水質(zhì)穩(wěn)定，它不象混床在每一個(gè)再生周期的開(kāi)始及結(jié)束階段因離子的泄漏而影響出水水質(zhì)。這種連續(xù)運(yùn)行的方式也簡(jiǎn)化了操作，無(wú)需再設(shè)置考慮因再生工作需要調(diào)整相關(guān)設(shè)備的操作人員及操作程序。
歸納為以下幾點(diǎn)：
電廠化學(xué)水處理
電子、半導(dǎo)體行業(yè)超純水
精密機(jī)械行業(yè)超純水
制藥工業(yè)工藝用水
實(shí)驗(yàn)室研究用超純水
精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水
其他行業(yè)所需的高純水制備
麥克尼斯MX-200EDI模塊組成部分有哪些？
EDI膜塊去除水中離子是通過(guò)內(nèi)置的離子交換樹(shù)脂進(jìn)行的。其應(yīng)用如下：（以Na+代表陽(yáng)離子，以C1-代表陰離子）
由于受EDI膜塊內(nèi)離子交換樹(shù)脂填充容量的限制，離子交換樹(shù)脂在使用一段時(shí)間后會(huì)逐漸飽和，因此離子交換樹(shù)脂須再生后方可繼續(xù)使用
EDI膜塊是由數(shù)個(gè)濃水室、淡水室組合單元疊加構(gòu)成的。
純水室-—-由在陰、陽(yáng)離子交換膜片之間填充混合樹(shù)脂，用以制造純水的的工作夾層稱為純水室
濃水室-—-兩個(gè)純水室相連之間由陰、陽(yáng)離子交換膜片組成的，用以收集濃水的工作夾層稱為濃水室
電極板-—-用于在膜塊運(yùn)行中產(chǎn)生電場(chǎng)作用的通電導(dǎo)板，稱為電極板。通常分為正極和負(fù)極，位于膜塊的兩端。
麥克尼斯MX-200EDI模塊應(yīng)用領(lǐng)域有哪些？
1、紡織印染、造紙用水、化工試劑生產(chǎn)用純水/超純水設(shè)備。
2、化學(xué)藥劑生產(chǎn)用純水/超純水設(shè)備。
3、化肥及精細(xì)化工生產(chǎn)用純水/超純水設(shè)備。
4、電鍍、玻璃鍍膜用超純水/超純水設(shè)備。
5、汽車、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗、鍍膜玻璃及蓄電池用純水/超純水設(shè)備。
6、化學(xué)實(shí)驗(yàn)室、物理實(shí)驗(yàn)室、生物實(shí)驗(yàn)室用純水/超純水設(shè)備。
麥克尼斯MX-200EDI模塊有哪些產(chǎn)品保障？
麥克尼斯Micronix公司保證所有提供的EDI膜塊在制造中使用的材料和工藝都是符合國(guó)家環(huán)保要求的。
麥克尼斯MICRONIX公司保證所有提供的EDI膜塊質(zhì)保期為3年，倉(cāng)儲(chǔ)時(shí)間不能超過(guò)10個(gè)月
對(duì)于有下列條件之一者，質(zhì)保承諾將會(huì)無(wú)效
膜塊的進(jìn)水條件不符合規(guī)定的進(jìn)水條件要求
進(jìn)水濁度大于1NTUO進(jìn)水SDI大于1.0
水中含有對(duì)離子膜有害的有機(jī)物或無(wú)機(jī)物
進(jìn)水溫度大于100F/38℃
在運(yùn)行過(guò)程中pH值小于6或者大于9
在運(yùn)行過(guò)程中，工作壓力超過(guò)0.5MPa
在任何過(guò)程中有接觸氯、臭氧、高錳酸鉀及強(qiáng)氧化劑
在膜塊清洗時(shí)，不得有發(fā)現(xiàn)顆粒物質(zhì)、淤泥沉淀物或微生物被清洗出來(lái)
EDI端板電極不能發(fā)現(xiàn)有因電壓或電流超過(guò)規(guī)定數(shù)值而引起的表面燒損跡象
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